저압 저온 가스 플라즈마

저온 가스 플라즈마는 “저압 저온 가스 플라즈마”라고도 불리며, 대기압(공기) 표면 전처리 방식과 달리 밀폐된 진공 챔버 내에서 진행됩니다. 일반적으로 산업용 100퍼센트 산소 가스(O2)가 사용되며, 그 외 다양한 가스 및 가스 조합도 사용됩니다. 가스는 부분 진공 상태의 챔버 내로 주입되어 RF 전기장에 노출됩니다. 내부 전도성 전극인 알루미늄 선반이나 케이지에 놓인 폴리머와 플라즈마 필드 내에서 생성된 고반응성 물질이 반응하면서 분자 결합이 끊어지고, 이로 인해 세정 및 화학적/물리적 개질(표면 거칠기 증가를 포함하며, 이는 기계적 접착력을 향상시킴)이 이루어집니다. 저온 가스 플라즈마 공정의 중요한 이점 중 하나는 탄화수소를 제거함으로써 용제 세정 공정을 없앨 수 있다는 점입니다. 대기압 전처리 방식은 모든 다환 방향족 탄화수소를 제거/세정하지 못하므로, 전처리 전에 용제 세정이 필요할 수 있습니다.

오해: 저온 가스 플라즈마 배치 공정은 인라인 처리 방식에 비해 속도가 너무 느립니다.

사실: 대량의 부품을 배치 방식으로 전처리한 후 자동화 조립 공정에 투입할 수 있어 별도의 추가 공정이 필요하지 않은 경우가 많습니다. 저온 가스 플라즈마 처리된 부품은 가장 높은 품질의 처리 결과와 가장 긴 보존 수명을 나타내는 경향이 있습니다. 이에 대한 비판은 경쟁 장비 제조업체들로부터 제기되는 경우가 많습니다.

저온 가스 플라즈마 챔버(내부 플라즈마) 시스템 모습.

저온 가스 플라즈마 개략도.