UV 방사 / 오존
UV-O3 세정은 일반적으로 유기 오염물질 제거에는 효과적이지만, 무기 오염물질 제거에는 효과가 없을 수 있습니다. 따라서 예비 세정 단계로서 UV-O3 세정을 실시하기 전에 순수, 용제 등을 사용하여 무기 오염물질을 미리 제거해야 합니다.
UV-O3 세정의 원리
UV-O3 세정의 원리는 다음과 같습니다. 유기 화합물이 자외선에 의한 분해와 O3의 생성 및 분해 과정에서 발생하는 강한 산화 작용에 의해 휘발성 물질(물, 이산화탄소, 질소 등)로 전환되어 오염된 표면에서 제거됩니다.
일반적으로 알려진 저압 수은등에서 방사되는 자외선의 주요 파장은 184.9nm와 253.7nm입니다. 대기 중의 산소(O2)가 184.9nm 파장의 자외선에 조사되면, 산소가 자외선을 흡수하여 다음 반응에 의해 O3를 생성합니다.
189.4nm 파장의 자외선에 노출된 오존(O3)은 253.7nm 파장의 자외선을 흡수하여 분해됩니다. O3가 생성되거나 분해되는 과정에서 강한 산화력을 지닌 원자 산소(O)가 발생합니다.
UV-O3 세정으로 제거 가능한 오염물질
- 절삭유
- 밀랍과 송진 혼합물
- 래핑제
- 진공 펌프유
- 실리콘 확산 펌프유
- 실리콘 진공 그리스
- 납땜 플럭스
- 인체 피지
- 장기간 대기 노출로 흡착된 오염물질
- 진공 증착으로 형성된 탄소 박막
저압 수은등의 광 스펙트럼
무료 견적 요청
Scott Sabreen — 사장 겸 수석 엔지니어, 30년 이상의 경력. 귀사의 적용 분야와 SABREEN 솔루션에 대해 무료로 상담해 드립니다. 가장 어려운 과제를 저희에게 맡겨 주십시오.
전화: +1 972-820-6777
