UV 방사 / 오존
UV-O3 세정은 일반적으로 유기 오염물질 제거에는 효과적이지만, 무기 오염물질 제거에는 효과가 없을 수 있습니다. 따라서 예비 세정 단계로서 UV-O3 세정을 실시하기 전에 순수, 용제 등을 사용하여 무기 오염물질을 미리 제거해야 합니다.
UV-O3 세정의 원리
UV-O3 세정의 원리는 다음과 같습니다. 유기 화합물이 자외선에 의한 분해와 O3의 생성 및 분해 과정에서 발생하는 강한 산화 작용에 의해 휘발성 물질(물, 이산화탄소, 질소 등)로 전환되어 오염된 표면에서 제거됩니다.
일반적으로 알려진 저압 수은등에서 방사되는 자외선의 주요 파장은 184.9nm와 253.7nm입니다. 대기 중의 산소(O2)가 184.9nm 파장의 자외선에 조사되면, 산소가 자외선을 흡수하여 다음 반응에 의해 O3를 생성합니다.
189.4nm 파장의 자외선에 노출된 오존(O3)은 253.7nm 파장의 자외선을 흡수하여 분해됩니다. O3가 생성되거나 분해되는 과정에서 강한 산화력을 지닌 원자 산소(O)가 발생합니다.
UV-O3 세정으로 제거 가능한 오염물질
- 절삭유
- 밀랍과 송진 혼합물
- 래핑제
- 진공 펌프유
- 실리콘 확산 펌프유
- 실리콘 진공 그리스
- 납땜 플럭스
- 인체 피지
- 장기간 대기 노출로 흡착된 오염물질
- 진공 증착으로 형성된 탄소 박막
저압 수은등의 광 스펙트럼
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자주 묻는 질문
UV/오존 세정은 어떻게 작동합니까?
표면의 유기 화합물이 물, 이산화탄소, 질소 같은 휘발성 물질로 전환됩니다. 184.9 nm의 자외선은 대기 중 산소에 흡수되어 오존을 형성하고, 253.7 nm의 자외선은 그 오존에 흡수되어 이를 분해합니다. 오존의 생성과 분해 양쪽에서 강한 산화력을 지닌 원자 산소가 생성되며, 이것이 오염을 제거합니다.
UV/오존 세정은 어떤 오염을 제거합니까?
제거 가능한 것으로 기록된 오염물에는 절삭유, 래핑제, 진공 펌프유, 실리콘 확산 펌프유, 실리콘 진공 그리스, 땜납 플럭스, 밀랍과 송진의 혼합물, 인체 피지, 진공 증착으로 형성된 탄소 박막, 장기간 대기 노출 중 흡착된 오염물이 포함됩니다.
UV/오존 세정을 단독으로 쓸 수 있습니까?
일반적으로는 어렵습니다. 유기 오염에는 효과적이지만 무기 오염에는 효과가 없을 수 있으므로, UV-오존 세정 전에 순수, 용제 등으로 무기 오염을 미리 제거해야 합니다.
어떤 광원을 사용합니까?
표준 광원은 저압 수은 증기 램프이며, 주요 방출 파장은 184.9 nm와 253.7 nm입니다 — 각각 오존을 생성하고 분해하는 두 파장이므로 램프 하나가 반응의 양쪽을 모두 구동합니다.
