UV 輻射與臭氧
UV-O3 清潔對於去除有機污染物通常相當有效，但對無機污染物可能效果不彰。因此，在進行 UV-O3 清潔之前，必須先以純水、溶劑或類似方式作為前置清潔，去除無機污染物。
UV-O3 清潔的原理
UV-O3 清潔的原理如下：有機化合物在紫外線分解作用下，以及在 O3 生成與分解過程中的強氧化作用下，轉化為揮發性物質（例如水、二氧化碳、氮氣），並從受污染的表面移除。
眾所周知的低壓汞蒸氣燈所輻射的紫外線，主要波長為 184.9 nm 與 253.7 nm。當大氣中的氧氣 O2 受到波長 184.9 nm 的紫外線照射時，氧會吸收紫外線並經由下列反應生成 O3：
波長 189.4 nm 的紫外線。臭氧 O3 受到波長 253.7 nm 的紫外線照射時，會吸收紫外光而分解。在 O3 生成或分解的過程中，會產生具有強氧化能力的原子氧 O。
UV-O3 清潔可去除的污染物
- 切削油
- 蜂蠟與松脂的混合物
- 研磨劑
- 真空幫浦油
- 矽擴散幫浦油
- 矽真空潤滑脂
- 焊接助焊劑
- 人體皮脂
- 長期暴露於空氣中所吸附的污染物
- 真空蒸鍍形成的碳薄膜
低壓汞燈的光譜
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