UV 輻射與臭氧

UV-O3 清潔對於去除有機污染物通常相當有效，但對無機污染物可能效果不彰。因此，在進行 UV-O3 清潔之前，必須先以純水、溶劑或類似方式作為前置清潔，去除無機污染物。

UV-O3 清潔的原理如下：有機化合物在紫外線分解作用下，以及在 O3 生成與分解過程中的強氧化作用下，轉化為揮發性物質（例如水、二氧化碳、氮氣），並從受污染的表面移除。

眾所周知的低壓汞蒸氣燈所輻射的紫外線，主要波長為 184.9 nm 與 253.7 nm。當大氣中的氧氣 O2 受到波長 184.9 nm 的紫外線照射時，氧會吸收紫外線並經由下列反應生成 O3：

波長 189.4 nm 的紫外線。臭氧 O3 受到波長 253.7 nm 的紫外線照射時，會吸收紫外光而分解。在 O3 生成或分解的過程中，會產生具有強氧化能力的原子氧 O。

低壓汞燈的光譜

Scott Sabreen — 總裁暨總工程師，擁有 30 年以上專業經驗。歡迎立即與我們聯絡，免費討論您的應用與 SABREEN 解決方案。請將最艱難的挑戰交給我們。

電話：+1 972-820-6777

常見問題

表面的有機化合物被轉化為水、二氧化碳與氮氣等揮發性物質。184.9奈米的紫外線被大氣中的氧吸收並生成臭氧，而253.7奈米的紫外線被該臭氧吸收並使其分解。在臭氧生成與分解的兩個過程中都會產生具強氧化能力的原子氧，正是它去除了污染。

有據可查可去除的污染物包括切削油、研磨劑、真空泵油、矽擴散泵油、矽真空脂、焊接助焊劑、蜂蠟與松香的混合物、人體皮脂、真空蒸鍍形成的碳薄膜，以及長期暴露於空氣中吸附的污染物。

一般不行。它對有機污染有效，但對無機污染可能無效，因此在進行紫外線臭氧清洗前，必須先以純水、溶劑或類似方式去除無機污染。

標準光源是低壓汞燈，其主要發射波長為184.9奈米與253.7奈米——正是分別生成與分解臭氧的兩個波長，因此一支燈即可驅動反應的兩個半程。