Radiação UV / Ozônio

Radiação UV / Ozônio

A limpeza por UV-O3 é geralmente eficaz na remoção de contaminantes orgânicos, embora possa ser ineficaz na remoção de contaminantes inorgânicos. Portanto, como limpeza preliminar, os contaminantes inorgânicos devem ser removidos previamente com água pura, solventes ou produtos semelhantes antes da realização da limpeza por UV-O3.

Princípio da limpeza por UV-O3

O princípio da limpeza por UV-O3 é o seguinte: os compostos orgânicos são convertidos em substâncias voláteis (por exemplo, água, dióxido de carbono, nitrogênio) por decomposição pelos raios ultravioleta e por forte oxidação durante a formação e decomposição do O3, sendo removidos da superfície contaminada.

Os principais comprimentos de onda dos raios ultravioleta irradiados por uma conhecida lâmpada de vapor de mercúrio de baixa pressão são 184.9 nm e 253.7 nm. Quando o oxigênio atmosférico O2 é irradiado com raios ultravioleta de comprimento de onda de 184.9 nm, o oxigênio absorve os raios ultravioleta para formar O3 pela seguinte reação:

Raios ultravioleta com comprimento de onda de 189.4 nm. O ozônio O3 irradiado com raios ultravioleta de comprimento de onda de 253.7 nm absorve a luz ultravioleta para se decompor em O3. Durante o processo de formação ou decomposição do O3, é gerado oxigênio atômico O, com forte capacidade oxidante.

Contaminantes removíveis pela limpeza por UV-O3

• Óleos de corte
• Misturas de cera de abelha e resina de pinho
• Agentes de lapidação
• Óleos de bombas de vácuo
• Óleos de silicone para bombas de difusão
• Graxas de silicone para vácuo
• Fluxos de solda
• Sebo humano
• Contaminantes adsorvidos durante exposição prolongada ao ar
• Filmes finos de carbono formados por evaporação a vácuo

Espectro óptico de lâmpada de mercúrio de baixa pressão

Plasma Atmosférico

Plasma de Chama

Radiação UV / Ozônio

Descarga Corona Elétrica

Pyrosil Plasma de Chama

Fluoroxidação

Plasma de Ar Elétrico

Plasma Frio de Gás

Químico e Mecânico

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