Promieniowanie UV / ozon
Czyszczenie UV-O3 jest zwykle skuteczne przy usuwaniu zanieczyszczeń organicznych, może natomiast okazać się nieskuteczne wobec zanieczyszczeń nieorganicznych. Dlatego w ramach czyszczenia wstępnego zanieczyszczenia nieorganiczne należy wcześniej usunąć za pomocą wody dejonizowanej, rozpuszczalników lub podobnych środków, zanim przeprowadzi się czyszczenie UV-O3.
Zasada czyszczenia UV-O3
Zasada czyszczenia UV-O3 jest następująca: związki organiczne przekształcane są w substancje lotne (na przykład wodę, dwutlenek węgla, azot) w wyniku rozkładu promieniowaniem ultrafioletowym oraz silnego utleniania podczas powstawania i rozpadu O3, a następnie są usuwane z zanieczyszczonej powierzchni.
Główne długości fal promieniowania ultrafioletowego emitowanego przez powszechnie znaną niskoprężną lampę rtęciową to 184,9 nm i 253,7 nm. Gdy tlen atmosferyczny O2 zostaje naświetlony promieniowaniem ultrafioletowym o długości fali 184,9 nm, pochłania to promieniowanie i tworzy O3 w następującej reakcji:
Promieniowanie ultrafioletowe o długości fali 189,4 nm. Ozon O3 naświetlony promieniowaniem o długości fali 253,7 nm pochłania światło ultrafioletowe i ulega rozkładowi. Podczas powstawania lub rozpadu O3 powstaje tlen atomowy O o silnych właściwościach utleniających.
Zanieczyszczenia usuwalne metodą UV-O3
- Oleje do obróbki skrawaniem
- Mieszaniny wosku pszczelego i żywicy sosnowej
- Środki do docierania
- Oleje do pomp próżniowych
- Silikonowe oleje do pomp dyfuzyjnych
- Silikonowe smary próżniowe
- Topniki lutownicze
- Sebum ludzkie
- Zanieczyszczenia zaadsorbowane podczas długotrwałej ekspozycji na powietrze
- Cienkie warstwy węglowe powstałe przez naparowywanie próżniowe
Widmo optyczne niskoprężnej lampy rtęciowej
Metody chemiczne i mechaniczne
Zamów bezpłatną wycenę
Scott Sabreen — prezes i główny inżynier, ponad 30 lat doświadczenia. Prosimy o kontakt już dziś, aby bezpłatnie i bez zobowiązań omówić Państwa aplikację i rozwiązania SABREEN. Powierzcie nam Państwo swoje najtrudniejsze wyzwania.
Telefon: +1 972-820-6777
Najczęściej zadawane pytania
Jak działa czyszczenie UV/ozonem?
Związki organiczne na powierzchni przekształcane są w substancje lotne, takie jak woda, dwutlenek węgla i azot. Promieniowanie ultrafioletowe o długości 184,9 nm jest pochłaniane przez tlen atmosferyczny i tworzy ozon, natomiast promieniowanie 253,7 nm pochłaniane jest przez ten ozon i go rozkłada. Zarówno przy powstawaniu, jak i przy rozkładzie ozonu powstaje tlen atomowy o silnych właściwościach utleniających i to on usuwa zanieczyszczenia.
Jakie zanieczyszczenia usuwa czyszczenie UV/ozonem?
Do udokumentowanych usuwalnych zanieczyszczeń należą oleje obróbkowe, pasty docierające, oleje do pomp próżniowych, oleje do krzemowych pomp dyfuzyjnych, silikonowe smary próżniowe, topniki lutownicze, mieszaniny wosku pszczelego i kalafonii, ludzki sebum, cienkie warstwy węglowe powstałe przez naparowanie próżniowe oraz zanieczyszczenia zaadsorbowane podczas długiej ekspozycji na powietrze.
Czy czyszczenie UV/ozonem można stosować samodzielnie?
Zasadniczo nie. Jest skuteczne wobec zanieczyszczeń organicznych, ale może być nieskuteczne wobec nieorganicznych, więc zanieczyszczenia nieorganiczne trzeba wcześniej usunąć wodą czystą, rozpuszczalnikami lub podobnie, zanim przeprowadzi się czyszczenie UV-ozonem.
Jakie źródło światła się stosuje?
Standardowym źródłem jest niskociśnieniowa lampa rtęciowa, której główne emitowane długości fali to 184,9 nm i 253,7 nm — dokładnie te dwie, które kolejno tworzą i rozkładają ozon, więc jedna lampa napędza obie połowy reakcji.
