低压冷气体等离子体

冷气体等离子体（亦称低压冷气体等离子体）在密封抽真空腔室内进行，与大气（空气）表面预处理方式有所不同。通常使用工业级纯氧气（O2），也可使用其他气体或混合气体。气体在部分真空条件下释放至腔室并施加射频（RF）电场。放置在等离子体场中的聚合物与腔室内导电电极铝架或铝笼上产生的高活性物种发生反应，断裂分子键，从而实现清洁及化学/物理改性（包括增加表面粗糙度以改善机械结合力）。冷气体等离子体工艺的显著优势在于去除烃类污染物，从而省去溶剂清洗步骤。大气预处理无法去除/清洁全部多环芳烃，因此预处理前可能仍需进行溶剂清洗。

误区：与在线处理方式相比，冷气体等离子体批量处理速度过慢。

实况：大批量零部件通常可进行批量预处理后直接送入自动化装配流程，无需额外加工。经冷气体等离子体处理的零部件往往具有最高的处理质量及最长的保质期。相关批评主要来自竞争设备制造商。

冷气体等离子体腔室（等离子体在腔室内部）系统视图。

冷气体等离子体示意图。