Bức xạ UV / Ozone
Làm sạch bằng UV-O3 thường có hiệu quả trong việc loại bỏ các chất gây ô nhiễm hữu cơ, nhưng có thể không hiệu quả đối với các chất gây ô nhiễm vô cơ. Do đó, trong bước làm sạch sơ bộ, cần loại bỏ trước các chất gây ô nhiễm vô cơ bằng nước tinh khiết, dung môi hoặc các chất tương tự trước khi tiến hành làm sạch bằng UV-O3.
Nguyên lý làm sạch bằng UV-O3
Nguyên lý làm sạch bằng UV-O3 như sau: các hợp chất hữu cơ được chuyển hóa thành các chất dễ bay hơi (ví dụ: nước, carbon dioxide, nitơ) thông qua quá trình phân hủy bởi tia cực tím và quá trình oxy hóa mạnh trong khi hình thành và phân hủy O3, sau đó được loại bỏ khỏi bề mặt bị nhiễm bẩn.
Các bước sóng chính của tia cực tím phát ra từ đèn hơi thủy ngân áp suất thấp thông dụng là 184.9 nm và 253.7 nm. Khi oxy trong khí quyển O2 được chiếu tia cực tím có bước sóng 184.9 nm, oxy sẽ hấp thụ tia cực tím để tạo thành O3 theo phản ứng sau:
Tia cực tím có bước sóng 189.4 nm. Ozone O3 khi được chiếu tia cực tím có bước sóng 253.7 nm sẽ hấp thụ ánh sáng cực tím để phân hủy O3. Trong quá trình hình thành hoặc phân hủy O3, oxy nguyên tử O có khả năng oxy hóa mạnh được sinh ra.
Các chất gây ô nhiễm có thể loại bỏ bằng phương pháp làm sạch UV-O3
- Dầu cắt gọt
- Hỗn hợp sáp ong và nhựa thông
- Chất mài rà (lapping)
- Dầu bơm chân không
- Dầu bơm khuếch tán silicon
- Mỡ chân không silicon
- Chất trợ dung hàn
- Bã nhờn da người
- Chất gây ô nhiễm hấp phụ trong quá trình tiếp xúc lâu dài với không khí
- Màng mỏng carbon hình thành do bốc bay chân không
Phổ quang học của đèn thủy ngân áp suất thấp
Yêu cầu báo giá miễn phí
Scott Sabreen — Chủ tịch kiêm Kỹ sư trưởng, hơn 30 năm kinh nghiệm chuyên môn. Hãy liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để trao đổi miễn phí về ứng dụng của quý khách và các giải pháp của SABREEN. Hãy giao cho chúng tôi những thách thức khó nhất của quý khách.
Điện thoại: +1 972-820-6777
