Promieniowanie UV i ozon » Zasada czyszczenia UV-O3

Promieniowanie UV / ozon

Czyszczenie UV-O3 jest zwykle skuteczne przy usuwaniu zanieczyszczeń organicznych, może natomiast okazać się nieskuteczne wobec zanieczyszczeń nieorganicznych. Dlatego w ramach czyszczenia wstępnego zanieczyszczenia nieorganiczne należy wcześniej usunąć za pomocą wody dejonizowanej, rozpuszczalników lub podobnych środków, zanim przeprowadzi się czyszczenie UV-O3.

Zasada czyszczenia UV-O3

Zasada czyszczenia UV-O3 jest następująca: związki organiczne przekształcane są w substancje lotne (na przykład wodę, dwutlenek węgla, azot) w wyniku rozkładu promieniowaniem ultrafioletowym oraz silnego utleniania podczas powstawania i rozpadu O3, a następnie są usuwane z zanieczyszczonej powierzchni.

Główne długości fal promieniowania ultrafioletowego emitowanego przez powszechnie znaną niskoprężną lampę rtęciową to 184,9 nm i 253,7 nm. Gdy tlen atmosferyczny O2 zostaje naświetlony promieniowaniem ultrafioletowym o długości fali 184,9 nm, pochłania to promieniowanie i tworzy O3 w następującej reakcji:

Promieniowanie ultrafioletowe o długości fali 189,4 nm. Ozon O3 naświetlony promieniowaniem o długości fali 253,7 nm pochłania światło ultrafioletowe i ulega rozkładowi. Podczas powstawania lub rozpadu O3 powstaje tlen atomowy O o silnych właściwościach utleniających.

Zanieczyszczenia usuwalne metodą UV-O3

• Oleje do obróbki skrawaniem
• Mieszaniny wosku pszczelego i żywicy sosnowej
• Środki do docierania
• Oleje do pomp próżniowych
• Silikonowe oleje do pomp dyfuzyjnych
• Silikonowe smary próżniowe
• Topniki lutownicze
• Sebum ludzkie
• Zanieczyszczenia zaadsorbowane podczas długotrwałej ekspozycji na powietrze
• Cienkie warstwy węglowe powstałe przez naparowywanie próżniowe

Widmo optyczne niskoprężnej lampy rtęciowej

Plazma atmosferyczna

Plazma płomieniowa

Promieniowanie UV i ozon

Obróbka koronowa

Plazma płomieniowa Pyrosil

Fluorooksydacja

Plazma powietrzna

Plazma zimna

Metody chemiczne i mechaniczne

---